ISBN/价格: | 978-7-122-45464-5:CNY118.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | Zemax光学设计从基础到实践/.张玺,唐钦编著 |
出版发行项: | 北京:,化学工业出版社:,2024 |
载体形态项: | 379页:;+图:;+27cm |
提要文摘: | 本书讲解了利用Zemax 2023进行光学设计和仿真分析的各种方法和技巧,主要内容包括光学设计基础、认识Ansys Zemax OpticStudio、初识镜头数据编辑器、光学成像镜头设计、镜头编辑高级操作、光学系统分析、非序列模式设计、几何光学像质评价、物理光学像质评价、光学系统的优化、光学系统公差分析和光学系统设计实例等。 |
题名主题: | 光学设计 研究 |
中图分类: | TN202 |
个人名称等同: | 张玺 编著 |
个人名称等同: | 唐钦 编著 |
记录来源: | CN XHWX 20250216 |